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日本电子BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉
输出功率。BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉以电子束为热源使用各种熔解用坩埚,对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。 适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。 可按照用途选择
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪/电源
请另行咨询。 用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点:用于光学薄膜及
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日本电子BS/JST系列电子枪/电子束蒸镀的高压电源
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刻蚀光栅
刻蚀光栅一、标准的刻蚀光栅规格:刻线/mm闪耀波长nm闪耀角度色散nm/mr12.7x12.7x 625x25x 625x25x 9.530x30x 9.550x50x 9.512.5x25x
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连华科技LH-3BS多参数测定仪
1.性能参数1.1波长参数:420nm 510nm 535nm 545nm 560nm 610nm 669nm 700nm示值误差:COD(≤50mg/L):≤±8%;COD
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸
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光刻胶
表面。当紫外光或电子束的照射时,光刻胶材料本身的特性会发生改变,经过显影液显影后,曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面,这样就将设计的微纳结构转移到了光刻胶上,而后续的刻蚀、沉积等工艺
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伯东NS离子刻蚀机
离子蚀刻机 20-M/NS-12 主要技术参数:基片尺寸直径 4英寸 X 12片直径 18英寸 X 3片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源WELL-5100(可更换为国内电源
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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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GAIA3 model 2016超高分辨双束扫描电镜系统 (FIB-SEM
光学系统设计 ·马达控制的精准样品台,可进行精确的移动或倾转操作 ·Field-free模式下可对磁性样品进行有效观察 ·高达400nA的束流强度 ·停留时间低至20ns的快速电子束刻蚀速度 ·FIB
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